| | | | | | | [文章信息] | | | 作者: | 文志磊 | | 时间: | 2004-08-25 | | 出处: | 天极Myhard | | 责任编辑: | Marco | |
| [文章导读] | | | 英特尔公司日前宣布,安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条EUV掩模试产线…… | |
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天极网8月5日消息 英特尔公司日前宣布,安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条EUV掩模试产线,让用于制造未来处理器的EUV(远紫外线)光刻技术从研发阶段前进到试用阶段,英特尔预计这种新技术预计将于2009年开始应用到芯片量产中。
光刻技术是用于将电路印刷到电脑芯片的技术,为了在一枚芯片上安装更多晶体管,半导体制造商必须印刷不断缩小的部件。英特尔之所以开发EUV光刻技术,是因为预计当前的芯片印刷技术将在未来几年内达到其极限。
EUV微型照射工具和采用世界首套EUV掩模制造工具的EUV掩模试验线的建立,将使英特尔能够印刷尺寸小于30纳米的电路,从而为EUV光刻技术投产后所需的15纳米分辨率做好准备,而现在在英特尔制造厂印刷的最小尺寸为50纳米。
英特尔表示:“我们在运用EUV光刻技术朝着在2009年实现制造32纳米制程方面又迈出了重要的一步。这一技术将有助于我们继续将摩尔定律的优势在未来十年得到延续。”

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