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英特尔32纳米制程处理器09年量产
[文章信息]
作者:文志磊
时间:2004-08-25
出处:天极Myhard
责任编辑:Marco
[文章导读]
英特尔公司日前宣布,安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条EUV掩模试产线……
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[正文]

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  天极网8月5日消息 英特尔公司日前宣布,安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条EUV掩模试产线,让用于制造未来处理器的EUV(远紫外线)光刻技术从研发阶段前进到试用阶段,英特尔预计这种新技术预计将于2009年开始应用到芯片量产中。

  光刻技术是用于将电路印刷到电脑芯片的技术,为了在一枚芯片上安装更多晶体管,半导体制造商必须印刷不断缩小的部件。英特尔之所以开发EUV光刻技术,是因为预计当前的芯片印刷技术将在未来几年内达到其极限。

  EUV微型照射工具和采用世界首套EUV掩模制造工具的EUV掩模试验线的建立,将使英特尔能够印刷尺寸小于30纳米的电路,从而为EUV光刻技术投产后所需的15纳米分辨率做好准备,而现在在英特尔制造厂印刷的最小尺寸为50纳米。

  英特尔表示:“我们在运用EUV光刻技术朝着在2009年实现制造32纳米制程方面又迈出了重要的一步。这一技术将有助于我们继续将摩尔定律的优势在未来十年得到延续。”


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