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R420 VS NV40全面测试之技术下篇
[文章信息]
作者:Rock
时间:2004-05-07
出处:硬件魅力
责任编辑:摩羯
[文章导读]
在Radeon 9700时代,ATi适时的选择了TSMC成熟的0.15微米来生产R300芯片。
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[正文]

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dfaRadeon X800物理规格与硬件解析

  ATi与nVIDIA在新一代高端显卡芯片的开发上都不约而同的选择了16条渲染管线的设计,而渲染管线的增加最直接带来的就是晶体管数量的骤然上升。

  R420集成1.6亿个晶体管,相对R360的~1.07亿个,增加了60%之多,而晶体管数量的爆增也不得不让开发周期较原来有所延长。2002年上半年ATi也曾正式发表过声名,随着高端显示芯片设计难度的加大将原计划12个月的开发周期延长到18个月。


R420核心集成1.6亿晶体管

  在渲染流水线上ATi为R420设计了16条象素处理管线,同时搭配顶点6个处理单元。可以说ATi与nVIDIA在这两点上不谋而合。不过令我们有些感到意外的是R420的顶点处理单元同R360相比,并不是成倍的增加。

TSMC 0.13微米+Low-K生产工艺

  在Radeon 9700时代,ATi适时的选择了TSMC成熟的0.15微米来生产R300芯片。可以说,一方面是时机恰好促成(R300在2002年春季Type-Out,此时0.13微米还未进入试制期);另一方面也是ATi一次决策上的胜利。在TSMC的0.13微米经过一年的摸爬滚打之后,ATi才正式将高端产品线纳入0.13微米生产范围。

  TSMC的0.13微米已进入了相对稳定的成熟期,并且随着去年Low-K技术在RV360上的成功应用,ATi这次可以放心大胆的在高端产品上使用0.13微米工艺。

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